Edwards 的防腐蝕 STP-L301(C) 用于電子顯微鏡和半導(dǎo)體應(yīng)用。Edwards的轉(zhuǎn)子可實(shí)現(xiàn)的性能,大的制程靈活性。
STP-L301(C) 已經(jīng)由科學(xué)儀器、半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設(shè)備制造商投入使用,并得到了。
應(yīng)用
金屬(鋁)、鎢和電介質(zhì)(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源,射束線泵送端點(diǎn)站
MBE
擴(kuò)散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長(zhǎng)
晶片檢查
負(fù)載鎖真空腔
科學(xué)儀器:表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理:射束線、加速器
放射線應(yīng)用:融合系統(tǒng)、回旋
功能和優(yōu)勢(shì)
的轉(zhuǎn)子
大的制程靈活性
無(wú)油
低振動(dòng)
高度
免維護(hù)
的控制器設(shè)計(jì)
自動(dòng)調(diào)整
自行診斷功能
直流電機(jī)驅(qū)動(dòng)
無(wú)電池運(yùn)行
緊湊型設(shè)計(jì)
占地面積小
半機(jī)架控制器
低振動(dòng)
內(nèi)置振動(dòng)隔離系統(tǒng)提供了 STP301C 和外部隔離器的性能。
數(shù)據(jù)
入口法蘭 | ISO100,CF100 |
KF25 | |
吹掃口 | KF10 |
抽速 |
|
N2 | 260 ls-1 |
H2 | 290 ls-1 |
壓縮比 |
|
N2 | >108 |
He | 5 x 105 |
H2 | 2 x 104 |
加熱時(shí)的極限壓力(VG/ISO 法蘭) | 6.5 x 10-6 Pa |
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(5 x 10-8 Torr) |
加熱時(shí)的極限壓力(ICF 法蘭) | 10-8 Pa |
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(10-10 Torr) |
大允許進(jìn)氣口壓力(環(huán)境空氣冷卻) | 6.7 x 10-2 Pa |
|
(5 x 10-4 Torr) |
大連續(xù)壓力(環(huán)境空氣冷卻) | 13 Pa |
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(0.1 Torr) |
額定速度 | 48000 rpm |
啟動(dòng)時(shí)間 | 3 min |
高入口法蘭溫度 | 120 °C |
輸入電壓 | 100 至 120 (± 10) V 交流或 |
|
200 至 240 (± 10) V 交流 |
啟動(dòng)時(shí)的功耗 | 0.55 kVA |
泵重量 | 13 kg |
控制器重量 | 7 kg |